C-X键被C-H键取代的脱卤反应（dehalogenation reactions）在过渡金属催化的偶联反应中，尤其是钯催化的交叉偶联反应中是很常见的竞争性反应，并导致相关杂质的形成和偶联收率的降低。Suzuki偶联，Sonogashira偶联，Heck偶联，Buchwald偶联等反应中均有可能出现掉卤素杂质。

Suzuki偶联反应中的脱卤素杂质（掉氯，掉溴，掉碘）的形成与多种反应因素有关。催化剂，配体，碱，溶剂，反应温度，底物自身性质以及硼酸酯活性等均会不同程度地参与到其中。

早在1978年就有研究对脱卤反应提出可能的机理，后经不断补充改进，形成了具有普遍接受性的经典机理，具体如下图所示。

该机理主要过程包括：

1. 卤代烃对Pd(0)络合物的氧化加成

2. 碱性中心对配合物中卤素离子的取代

3. 络合物发生β-消除生成相应的醛酮和钯氢化物

4. 钯氢化物发生还原消除生成脱卤素产物

该机理的核心观点：

1. 氧化加成是限速步骤

2. 碱和催化剂对脱卤是必须的

3. 碱的增加往往导致脱卤产物增加

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